设备名称：扫描电镜显微镜

生产厂家：美国赛默飞公司

技术参数：

1、电子光学系统：

2、样品室和样品台

3、探测器系统：

包含样品室二次电子探测器1个，镜筒内独立的正光轴背散射电子探测器1个，镜筒内独立的正光轴二次电子探测器1个，样品室内IR-CCD红外相机（观察样品台高度），可用于图像导航的彩色光学相机。

4、真空系统：

由2个离子吸附泵，1个l/s分子涡轮泵，1个机械泵构成真空系统，样品室抽真空时间≤3.5min。

5、图像处理

样品要求：

块状样品需适合样品台大小尺寸，对不导电样品需进行镀膜处理，粉末样品应党牢固的粘贴于导电胶上，所有样品需导电且不带磁性。

应用范围：

纳米材料、生物医学材料、无机物、有机材料、金属氧化物、高分子聚合物、陶瓷、金属、半导体等。

仪器介绍：

扫描电镜是由设备主机、冷却水循环系统、UPS等独立部件组成，Apreo2C扫描电镜具有高分辨率、高质量成像、高效率元素及结构分析、适应材料种类广泛、智慧型操作等特点，能实现超低电压成像，获取样品表面的清晰图像。通过仪器上的能谱仪可以对样品进行定性和定量分析，扫描电镜的原理是将经过多次电磁透镜集束后的电子照射到样品表面，激发出二次电子和特征X射线，一部分电子经过反射产生背散射电子，仪器的接收探头接收到这些信号并对其进行分析处理操作，最终得到我们常见的SEM图像。

设备名称：电子探针

生产厂家：日本岛津公司

技术参数：

1.电子光学系统

电子枪灯丝为CeB6灯丝，加速电压为0.1～30kV（0.1kV步进，5kV以下可以10V步进设定）二次电子分辨率≤6nm（加速电压30kV），背散射电子像分辨率≤20nm（拓扑像、成分像），成分分辨足以清晰分辨α/β黄铜，束流范围为10-12～10-6A，配有固定光阑

和平台式物镜，图像放大倍数从40倍到40万倍

2.波谱系统

3.光学显微镜系统

光学显微镜分辨率≤1μm，可使用电脑屏幕显示CCD观察或单镜筒肉眼观察，焦深为4μm。

3.样品台系统

应用范围：金属、非金属、聚合物、金属氧化物、非金属氧化物、合金等。

样品要求：要求样品导电且不带磁性，固体块状样品尺寸需满足样品台要求。

仪器介绍：

电子探针显微分析仪由主机、冷却循环水机、离子泵、UPS等独立部件构成，主机规格为××mm（长×宽×高），电子探针显微分析仪可以对除少数轻量元素外的所有元素进行分析，常用于对各类材料进行微区的定性和定量分析，具有高精准度和时效性，该仪器内置有波长色散型X射线分光器（WDS），在微区元素分析范围、束流大小、能量分辨率、分析检测下线、定量分析精度、可分析类型方面具有显著的优势。电子探针广泛应用于材料科学、能源化工、生物制药等领域，是世界上应用最广的科研仪器之一。

设备名称：X-射线衍射仪

生产厂家：日本理学公司

技术参数：

1.X射线光源、光管和防护：

X射线发生器的输出功率不小于3kW，额定电压不小于60kV；额定电流不小于60mA。Cu靶光管和Co靶光管各一个，主机的X射线辐射量小于1Sv/h。投标仪器具备中国环保机构颁发的辐射安全豁免批复。

2.测角仪：

测角仪具有光学定位系统，扫描方式为立式，转动范围从-8°-°，测角仪半径≥mm，测角圆直径可连续改变，最小步长为0.，角度重现性为0.，驱动方式为步进马达加光学编码器驱动。

3.探测器

探测器为一维半导体阵列检测器，适合一维和零维，个以上子检测器，检测器窗口面积大mm2，具有高计数模式及去除荧光背景模式功能，能消除Cu照射铁系、钴、钨样品产生的荧光，完全免维护。

4.样品台

带有Z轴（高度）自动可调样品台，移动范围：-10mm-+2mm，步长精度≤0.mm/步。

应用范围：

金属材料：半导体材料、合金、超导材料、粉末冶金材料；无机材料：陶瓷材料、磁性材料、催化剂、矿物、水泥、玻璃；复合材料：碳纤维、纤维大分子、工业废弃物；有机材料：医药品、工程塑料、树脂。

样品要求：

金属块状样品高度低于10mm，粉末样品要求干燥、均匀。

仪器介绍：

X射线衍射仪由主机、冷却循环水系统、稳压电源等独立部件构成，X射线衍射仪是当今世界上最常用的科学分析仪器，在材料学、物理学、化学、地质科学、环境科学、生物学等学科领域都有广泛应用，主要用于确定物质和材料的物相和含量，研究化合物材料的晶体结构和原子排列，测定纳米材料的晶粒大小、应力、织构、取向度、结晶度等。

设备名称：正置金相显微镜

生产厂家：德国蔡司公司

设备名称：倒置金相显微镜

生产厂家：德国蔡司公司

设备名称：体式显微镜

生产厂家：德国蔡司公司

设备名称：自动磨抛机

生产厂家：司特尔公司

设备名称：自动双头镶嵌机（油压）

生产厂家：上海金相机械设备有限公司

设备名称：自动精密切割机

生产厂家：上海金相机械设备有限公司